Das ionJETTM ist eine Atmosphärendruck-Plasmadüse, die auf einer neuen flexiblen Mikrowellentechnologie basiert ist. Im Gegensatz zu herkömmlichen Plasmadüsen, wird hier das Plasma am Ausgang der Düse durch einer Antenne erzeugt und benötigt weder hohe Gasströme, noch hohe elektrische Leistungen. Das Plasma interagiert direkt mit der Substratoberfläche und sorgt so für eine optimale Effizienz.
Einsetzbar für spezifische Anwendungen mit Luft, Sauerstoff, Stickstoff oder Argon, eignet sich dieses Plasmadüse eignet sich besonders für die Reinigung, Aktivierung und Funktionalisierung inerter Materialien wie fluorierte Polymere, Silicon, und um bestimmte spezifischer widerstandsfähige Oberflächenverschmutzung zu entfernen. Effizient auch bei geringer Leistung durch verbesserte Mikrowellentechnologie und Designdüse, diese Plasmadüse ist energieeffizient und verbraucht wenig Gas : 500 W und 2 l / min. Diese Plasmadüse ist leise und kann in der Industrie oder in einem Labor verwendet werden.
Laufende Entwicklungen betreffen Ablagerungsprozesse von metallischen dünnen Schichten mit Pulvern und Fäden.
Siehe unten, das ionJETTM -System und der kontrollierte Aufbau einer Kupferschicht ermöglichen das ‚Schreiben‘ von IONICS.